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Electron-beam, X-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies
Foto de Stock: A capa pode ser diferente.

Electron-beam, X-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies III: March 15-16, 1984, Santa Clara, California (Proceedings of SPIE--the International Society for Optical Engineering) Brochura - 1984

por Alfred (Editor) Wagner


Detalhes

  • Título Electron-beam, X-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies III: March 15-16, 1984, Santa Clara, California (Proceedings of SPIE--the International Society for Optical Engineering)
  • Autor Alfred (Editor) Wagner
  • Encadernação Brochura
  • Edição 1st
  • Editorial SPIE--the International Society for Optical Engineering, Bellingham, WA, U.S.A.
  • Data de publicação 1984
  • ISBN 9780892525065
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Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Techniques for Submicrometer Lithographies III, Conference Proceedings, Volume 471, 15-16 March 1984, Santa Clara, California, SPIE.

por Wagner, Alfred (Editor)

  • Usado
  • Muito Bom
  • Brochura
  • first
Condição
Usado - Muito Bom
Edição
1st.
Encadernação
Paperback
ISBN 10 / ISBN 13
9780892525065 / 0892525061
Quantidade Disponível
1
Livreiro
NEWARK, Ohio, United States
Avaliação do vendedor:
Este vendedor ganhou uma avaliação de 5 de 5 estrelas de Biblio clientes.
Preço do item
€ 17,06
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Descrição:
Bellingham, WA, U.S.A.: SPIE PRESS-The International Society for Optical Engineering, 1984. Ex-Library. Very Good. Paperback. 1st.. W/full markings and pocket. Wear, Soil. Size: 4to.
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